Produkteigenschaften:
Luvos Heilerde Clean Maske
Naturreine Heilerde und kostbarer Edelsalbeiextrakt, kombiniert mit Zink, Hamamelisextrakt und wertvollem Aprikosenkernöl verleihen diesem hochwertigen Wirkstoffkomplex nachhaltige Pflegeeigenschaften: Reinigt mild und gründlich, befreit die Haut von feinstem Schmutz und Ablagerungen. Verfeinert die Poren, nimmt Glanz und schenkt bei regelmäßiger Anwendung eine nachweislich glattere Hautoberfläche.
Ohne synthetische Farb-, Duft- und Konservierungsstoffe. BDIH-konform konserviert mit Potassium Sorbate. Vegan. Hautverträglichkeit dermatologisch bestätigt.
Anwendung:
Die Maske gleichmäßig auf Gesicht, Hals und Dekolleté auftragen, dabei Augen- und Mundpartie aussparen. Nach ca. 10 - 15 Minuten die Maske mit lauwarmem Wasser und einem Pad leicht massierend abnehmen. Für eine optimal gepflegte Haut anschließend das aufbauende Luvos® Gesichtsfluid verwenden.
Inhaltsstoffe:
Inhaltsstoffe: Aqua, Sorbitol, Helianthus Annuus (Sunflower) Seed Oil*, Alcohol, Glycerin, Glyceryl Stearate Citrate, Loess, Cetearyl Alcohol, Glyceryl Stearate, Prunus Armeniaca (Apricot) Kernel Oil*, Hamamelis Virginiana (with Hazel) Leaf Extract, Salvia Officinalis (sage) Leaf Extract*, Magnesium Aluminium Silicate, Zinc PCA, Xanthan Gum, Stearic Acid, Palmitic Acid, Tocopherol, Levulinic Acid, Sodium Levulinate, Sodium Hydroxide, Parfum (Natural Essential Oils), Limonene**, Citral**, Linalool**, Geraniol**, CI 77891 (Titanium Dioxide), CI 77492 (Iron Hydroxides).
* Rohstoffe aus kontrolliert biologischem Anbau.
** Bestandteile des natürlichen Parfümöls.
Quelle: www.luvos.de
Stand: 06/2021
Hinweis: Weiterführende Angaben zum Hersteller finden Sie
hier.
